区别：

基轴制：以轴为设计的配合基准，代号为h，上偏差为0；

基孔制：以孔为设计的配合基准，代号为H，下偏差为0。

与基轴制配合的联系：

基孔制配合与基轴制配合是规定配合系列的基础。按照孔，轴公差带相对位置的不同，基孔制和基轴制都有间隙配合，过渡配合和过盈配合三类配合。

间隙配合

孔与轴装配时，有间隙（包括最小间隙等于零）的配合。孔的公差带在轴的公差带之上。

过渡配合

孔与轴装配时，可能有间隙或过盈的配合。孔的公差带与轴的公差带互相交叠。

过盈配合

孔与轴装配时有过盈（包括最小过盈等于零）的配合。孔的公差带在轴的公差带之下。

在制造配合的零件时，使其中一种零件作为基准件，它的基本偏差一定，通过改变另一种非基准件的基本偏差来获得各种不同性质配合的制度称为基准制。根据生产实际的需要，国家标准规定了两种基准制。

1）基孔制

基孔制--是指基本偏差为一定的孔的公差带与不同基本偏差的轴的公差带形成各种配

合的一种制度。见左下图。基孔制的孔称为基准孔，其基本偏差代号为H，其下偏差为零 [1]  。

2）基轴制

基轴制--是指基本偏差为一定的轴的公差带与不同基本偏差的孔的公差带形成各种配合的一种制度。见右下图。基轴制的轴称为基准轴，其基本偏差代号为h，其上偏差为零。