在平面机构中，当引入一个转动副时，构件2围绕固定点或轴线进行旋转。这种旋转运动仅保留了一个自由度，同时带入了一个约束条件，意味着该转动副限制了构件2沿其他方向的移动。

具体来说，转动副允许构件2围绕接触点A转动，但不允许其沿接触点处切线方向移动。这种运动副类型可以理解为一种点接触或线接触，属于高副的一种。

高副的特点在于它能够提供较为复杂的运动方式，同时伴随着更多的约束条件。与低副（面接触）相比，高副在限制构件运动方面更为严格，但同时也带来了更多的灵活性。

因此，在设计平面机构时，通过合理使用转动副，可以有效控制构件的运动状态，从而实现特定的功能需求。这种设计策略在机械工程中具有广泛的应用，特别是在需要精确控制运动轨迹的场合。

值得注意的是，转动副的引入不仅限于单一的点接触，还可以扩展到线接触的情况。例如，在某些复杂机构中，可能会出现多个转动副共同作用的场景，这进一步增强了机构的运动控制能力。

综上所述，引入一个转动副能够显著影响平面机构的运动特性，通过合理配置和设计，可以实现更加复杂和精确的运动控制。